為了評(píng)估其作為假牙材料的應(yīng)用，在人工唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 介質(zhì)中對(duì) CoCrW 合金進(jìn)行了體外細(xì)胞毒性測試、表面表征和電化學(xué)研究。使用的技術(shù)有：陽極極化曲線、計(jì)時(shí)電流測量、電化學(xué)阻抗譜 (EIS)、掃描電子顯微鏡 (SEM)、能量色散 X 射線光譜 (EDS) 分析和 X 射線光電子能譜 (XPS)。還進(jìn)行了細(xì)胞毒性試驗(yàn)。比較 CoCrW 合金在兩種研究介質(zhì)中的電化學(xué)行為，從腐蝕電位 (Ecorr) 到 600 mV 陽極過電壓。從電化學(xué)測量中觀察到，兩種介質(zhì)中的 CoCrW 合金僅呈現(xiàn)普遍腐蝕。 SEM和EDS分析表明，該合金存在碳化鈮和硅錳氧化物作為非金屬夾雜物。 XPS 結(jié)果表明鈷對(duì)鈍化膜的形成沒有顯著貢獻(xiàn)。細(xì)胞毒性試驗(yàn)表明 CoCrW 合金沒有細(xì)胞毒性。這些結(jié)果表明 CoCrW 合金可用作生物材料，用作牙種植體中的假體。

介紹

由于其機(jī)械性能，金屬合金自 20 世紀(jì)初就被用作牙科材料 (1,2)。如今，由于經(jīng)濟(jì)問題，非貴重合金在牙科領(lǐng)域正在取代貴重合金。牙科用非貴金屬合金表面有一層薄的鈍化氧化物膜。這種鈍化膜必須具有高附著力、致密性、高電阻和無裂紋等缺陷 (1,2)。

口腔環(huán)境非常適合促進(jìn)金屬材料的氧化。唾液的數(shù)量和質(zhì)量、唾液 pH 值、牙菌斑、蛋白質(zhì)含量、食物和液體攝入的化學(xué)和物理特性以及一般口腔健康狀況等因素可能會(huì)影響口腔中的金屬腐蝕 (3)。口腔環(huán)境中的牙科材料有兩個(gè)問題：腐蝕產(chǎn)物釋放到身體引起的局部效應(yīng)或全身性損傷以及對(duì)合金物理性能和臨床性能的影響（4-7）。

CoCr 基合金已用于假牙，因?yàn)樗鼈兙哂辛己玫哪透g性 (8,9)。最近，已經(jīng)開發(fā)出鎢含量高的合金而不是鉬，旨在提高陶瓷-金屬的附著力 (10)。另一方面，與 CoCrW 合金 (13,14) 相比，CoCrMo 合金得到了更多的研究 (4-12)。

? ? ?在這項(xiàng)工作中，在人工唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 介質(zhì)中對(duì) CoCrW 合金進(jìn)行了體外細(xì)胞毒性測試、表面表征和電化學(xué)行為，以評(píng)估其作為假牙材料的應(yīng)用。為了表征合金表面，使用極化曲線、計(jì)時(shí)電流法、電化學(xué)阻抗譜（EIS）、掃描電子顯微鏡（SEM）、能量色散X射線光譜（EDS）和X射線光電子能譜。還進(jìn)行了體外細(xì)胞毒性試驗(yàn)，以研究擬議合金作為植入材料的生物相容性。

材料與方法

樣品和解決方案

CoCrW合金的化學(xué)成分見表1。

人工唾液的成分由三種不同的溶液制備。 使用以下試劑/濃度 (mol.L-1)： 溶液 A：

?

?表1 CoCrW 合金的化學(xué)成分 (wt )

NaH2PO4/0.233 + KCl/1.164 + NaCl/0.123 + NH4Cl/0.205

+ 檸檬酸鈉/3.74x10-3 + 乳酸/0.039； 溶液 B-尿素/0.167 + 尿酸/4.46x10-3 + NaOH/5x10-3 和溶液 C：KSCN/0.123。 通過混合 A、B 和 C 溶液 (1:1:1) 每天制備唾液溶液，然后在高純度去離子水 (15) 中稀釋 50 倍。

所有實(shí)驗(yàn)均使用自然曝氣溶液在 (37.0±0.5) °C 和 6.6 pH 值（口腔條件）下進(jìn)行三次重復(fù)。

電極

CoCrW 合金工作電極是由棒的中心部分制成的圓盤，面積為 0.90 cm2。 圓柱形環(huán)氧樹脂底座與鋼盤配合。 一根同心黃銅棒連接到鋼+環(huán)氧樹脂基體上。 通過依次用更細(xì)等級(jí)的 120、400、600 和 2000 目砂紙拋光制備電極，然后在實(shí)驗(yàn)前用蒸餾水和乙醇徹底沖洗并風(fēng)干。

輔助電極由鉑箔組成，每次實(shí)驗(yàn)前都用酸清洗并燃燒。 飽和甘汞電極（SCE）用作參比電極。

?

電化學(xué)實(shí)驗(yàn)

通過動(dòng)電位極化陽極曲線和計(jì)時(shí)電流曲線評(píng)估耐腐蝕性。 所研究的 CoCrW 合金在人工唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液中。 這些評(píng)估是在每個(gè)電位應(yīng)用達(dá)到恒定電流后進(jìn)行的，從陽極方向上的開路電位開始，從 Ecorr 到 0.9 V vs. SCE，使用 1 mV.s-1 掃描速率。 作為工作標(biāo)準(zhǔn)，假設(shè)當(dāng)電流密度為 10 mA/cm2 時(shí)達(dá)到跨鈍化電位。 電化學(xué)阻抗譜 (EIS) 測量在 8 個(gè)十倍頻（從 100 KHz 到 10 mHz）進(jìn)行。 潛力是

±8 mV, p.p. 實(shí)驗(yàn)在 37 °C 下進(jìn)行。 一種

μAutolab type III/FRA2 恒電位儀（Metrohm Autolab BV，荷蘭）用于與頻率響應(yīng)檢測器和微型計(jì)算機(jī)耦合。

表 2. 使用能量色散光譜 (EDS) 分析 CoCrW 的不同表面區(qū)域拋光后的合金

表面表征

掃描電子顯微鏡 (SEM) 和能量色散 X 射線光譜 (EDS) 分析

SEM 和 EDS 分析在與 Stereoscan 440 Leica 掃描電子顯微鏡（Leica Microsystems）耦合的 WDX600 牛津顯微鏡（Leica Microsystems. Wetzlar，德國）上進(jìn)行。 樣品使用 1 μm 金剛石膏拋光，用水和乙醇沖洗并風(fēng)干。 使用 EDS 分析了不同的表面區(qū)域（表 2）。

?

X 射線光電子能譜 (XPS) 分析

XPS 分析在光譜儀（型號(hào) XSAM HS；Kratos Analytical Ltd, Manchester, UK）上在超高真空（約 10-8 Torr）下進(jìn)行。非單色 Mg Kα (hν=1253.6 eV) 輻射用作 X 射線源，在 12 kV 電壓下具有 5 mA 發(fā)射電流。將樣品拋光，用去離子水沖洗，在超聲波浴中用分析級(jí)丙酮清洗 5 分鐘，然后用去離子水沖洗。在這些實(shí)驗(yàn)之前，將樣品在 Ecorr 浸入人造唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液中 8 小時(shí)。 8 小時(shí)后，分析表面成分以研究鈍化膜成分中鈷 (Co) 和鉻 (Cr) 的存在。作為結(jié)合能參考值，對(duì)應(yīng)于外來烴 (16) 的碳峰的值是 284.8 eV。評(píng)估包括用于背景扣除的 Shirley 程序、混合高斯/洛倫茲函數(shù)和用于擬合峰值的最小二乘程序。

?

表面表征

掃描電子顯微鏡 (SEM) 和能量色散 X 射線光譜 (EDS) 分析

SEM 和 EDS 分析在與 Stereoscan 440 Leica 掃描電子顯微鏡（Leica Microsystems）耦合的 WDX600 牛津顯微鏡（Leica Microsystems. Wetzlar，德國）上進(jìn)行。 樣品使用 1 μm 金剛石膏拋光，用水和乙醇沖洗并風(fēng)干。 使用 EDS 分析了不同的表面區(qū)域（表 2）。

?

X 射線光電子能譜 (XPS) 分析

XPS 分析在光譜儀（型號(hào) XSAM HS；Kratos Analytical Ltd, Manchester, UK）上在超高真空（約 10-8 Torr）下進(jìn)行。非單色 Mg Kα (hν=1253.6 eV) 輻射用作 X 射線源，在 12 kV 電壓下具有 5 mA 發(fā)射電流。將樣品拋光，用去離子水沖洗，在超聲波浴中用分析級(jí)丙酮清洗 5 分鐘，然后用去離子水沖洗。在這些實(shí)驗(yàn)之前，將樣品在 Ecorr 浸入人造唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液中 8 小時(shí)。 8 小時(shí)后，分析表面成分以研究鈍化膜成分中鈷 (Co) 和鉻 (Cr) 的存在。作為結(jié)合能參考值，對(duì)應(yīng)于外來烴 (16) 的碳峰的值是 284.8 eV。評(píng)估包括用于背景扣除的 Shirley 程序、混合高斯/洛倫茲函數(shù)和用于擬合峰值的最小二乘程序。

?

細(xì)胞毒性試驗(yàn)

通過在與合金樣品接觸后將細(xì)胞培養(yǎng)物暴露于溶液中進(jìn)行細(xì)胞毒性測定，在 37°C 的培養(yǎng)基 MEM 中浸泡 10 天。 NCTC 克隆 929 細(xì)胞系購自美國典型培養(yǎng)物保藏中心 (ATCC) 庫。 根據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)化組織 (ISO) (19)，在之前的論文 (17,18) 中描述了中性紅吸收 (NRU) 方法，評(píng)估了細(xì)胞毒性效應(yīng)。

?

結(jié)果

電化學(xué)結(jié)果

人工唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液的腐蝕電位（固定開路電位值）為

-100±28 mVSCE 和 -277±23

mVSCE 分別（圖 1A）。陽極動(dòng)電位極化曲線由腐蝕電位獲得并繪制，以評(píng)估電位的影響，以確定合金鈍化的電位范圍和跨鈍化電位的值。進(jìn)行計(jì)時(shí)電流測試是為了驗(yàn)證鈍化膜上是否存在點(diǎn)蝕。從極化曲線獲得的結(jié)果繪制在圖 1A 中，其中合金的計(jì)時(shí)電流曲線在不同的電位值（圖 1B 和 1C），分別在人工唾液和 NaCl 介質(zhì)中。計(jì)時(shí)電流結(jié)果顯示在不同的電位下，并證實(shí)了通過動(dòng)電位極化陽極曲線獲得的結(jié)果，表明金屬表面鈍化的電位范圍。在不同電位值下觀察到的電流密度恒定值表明合金不存在點(diǎn)腐蝕。

?

EIS 被用來研究鈍化膜/電解質(zhì)界面和隨電位增加的演變。圖 2 顯示了 CoCrW 在人工唾液（圖 2A）和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液（圖 2B）中 Ecorr 和 0.25 VSCE 的 Bode（模量和相）圖。對(duì)于兩種介質(zhì)中的合金/溶液界面，可以看到類似的行為：阻抗的虛部和實(shí)部隨著電位變得比 Ecorr 更正而減少。建議的等效電路如圖 2C 所示，

其中 R 對(duì)應(yīng)于電解質(zhì)電阻，CPE 和 Rf 分別對(duì)應(yīng)于恒相元件（偽電容）和通過保護(hù)膜氧化反應(yīng)的極化電阻。CPEdc 和 Rct 分別對(duì)應(yīng)于雙層恒相CoCrW 合金氧化的元素和電荷轉(zhuǎn)移電阻。在兩種媒體中為 Ecorr 和 0.25 VSCE 提出了相同的電路。

表面表征

??????進(jìn)行SEM和EDS分析以評(píng)估非金屬夾雜物的存在。拋光后使用 EDS 分析不同的表面區(qū)域

1 mm 鉆石膏。圖 3 顯示了三個(gè)不同的區(qū)域，1、2 和 3。根據(jù) EDS 分析，區(qū)域 1 表示整體成分，區(qū)域 2 對(duì)應(yīng)于碳化鈮，區(qū)域 3 是由于存在硅和錳氧化物。

XPS 用于研究鈍化膜成分中 Cr 和 Co 的存在。表 3 顯示了鈍化膜中元件的絕對(duì)電位。表面的鉻含量在兩種介質(zhì)中都高于鈷，與唾液相比，在 0.15 mol.L-1 NaCl 中更高。結(jié)果表明鈍化膜中存在鉻 (III) 和鈷氧化物。

?

細(xì)胞毒性試驗(yàn)

?????進(jìn)行細(xì)胞毒性試驗(yàn)，結(jié)果見圖4；細(xì)胞毒性評(píng)價(jià)采用中性紅吸收法。陽性和陰性對(duì)照用于確認(rèn)測試程序的適當(dāng)性能和/或評(píng)估 CoCrW 合金的結(jié)果，以及控制電池靈敏度、提取效率和其他測試參數(shù)。細(xì)胞活力高于 IC50( ) 線的樣品被認(rèn)為是無毒的，低于 IC50( ) 線的樣品是有毒的。

?

討論

?????圖 1A 顯示鹽水溶液中的 Ecorr 更正，表明與人工唾液介質(zhì)相比，形成更好的被動(dòng)膜。 CoCrW 合金（圖 1A）在大的分析電位范圍內(nèi)顯示出較小的電流密度值（1 至 10 μA/cm2），表明在兩種介質(zhì)中形成的鈍化膜具有良好的特性。 CoCrW 合金在 NaCl 介質(zhì)中表現(xiàn)出較低的鈍化電流密度，表明氯化鈉的鈍化膜比人工唾液中的鈍化膜更多。計(jì)時(shí)電流曲線（圖 1B 和 1C）即使在高電位下也顯示出恒定的電流密度值，表明沒有點(diǎn)腐蝕。結(jié)果表明，CoCrW 合金在 0.9 V 和兩種介質(zhì)中的高電流密度值下僅呈現(xiàn)普遍腐蝕。

?

???通過 EIS 在 Ecorr 和 0.25 VSCE 下研究了鈍化膜的特性。結(jié)果示于圖2A和2B中。波特相圖是典型的無源系統(tǒng)，在低頻時(shí)阻抗的實(shí)部和虛部均具有高值。在波特圖中 |Z| 的值約為 105 Ω/cm2 且角度大于 75o，顯示形成的薄膜具有高阻容特性。波特相圖指出了人工唾液和氯化鈉的相同機(jī)制。圖 2C 還顯示了根據(jù)模擬等效電路對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的擬合。在整個(gè)研究頻率范圍內(nèi)觀察到實(shí)驗(yàn)結(jié)果和所提出的等效電路之間的良好一致性，表明兩種介質(zhì)中的定性機(jī)制相同。在氯化鈉介質(zhì)中形成的膜（圖 2B）比在人工唾液中形成的膜（圖 2A）具有更好的質(zhì)量。

鈍化膜的成分由 Ecorr 的 XPS 分析。氯化鈉中形成的鈍化膜中鉻和鈷的含量比人工唾液中的多。保護(hù)膜由兩種介質(zhì)（20）中的氧化鉻形成。 Hodgson 等人也獲得了這些結(jié)果。 (21)。在 CoCr 基合金中，只有在高電位時(shí)才會(huì)發(fā)現(xiàn)鉻氧化的另一種狀態(tài)，如 Cr (VI) (21,22)。 Co2+ 和 Co3+ 之間的化學(xué)位移非常小 (22-24)，表明難以表征金屬表面的氧化態(tài)。薄膜中的少量鈷表明它擴(kuò)散到溶液中并且沒有顯著貢獻(xiàn)到氧化物相。

在這項(xiàng)研究中，測試合金即使在 100? 提取物濃度下也沒有出現(xiàn)毒性作用。所有活力曲線均高于細(xì)胞毒性指數(shù)線，這意味著 CoCrW 合金在該測定中沒有顯示出細(xì)胞毒性效應(yīng)。在這項(xiàng)研究中，CoCrW 合金表現(xiàn)出良好的行為，形成了富含鉻 (III) 氧化物和少量鈷氧化物的均勻鈍化膜。在 0.15 mol.L-1 NaCl 中形成的薄膜比在人工唾液中形成的薄膜更具電容性和電阻性。人工唾液的化學(xué)復(fù)雜性可能導(dǎo)致鈍化膜的更大不穩(wěn)定性。 SEM 和 EDS 表明 CoCrW 合金呈現(xiàn)碳化鈮和硅和錳的氧化物作為非金屬夾雜物。細(xì)胞毒性試驗(yàn)驗(yàn)證了非細(xì)胞毒性

根據(jù)所使用的方法對(duì)合金的影響。

這項(xiàng)研究的結(jié)果表明，從電化學(xué)和細(xì)胞毒性的角度來看，CoCrW 合金可用作生物材料，用于種植牙假體。

?

圖1所示。CocrW合金在唾液中的電位、極化曲線。在每一個(gè)潛在的應(yīng)用中，7r B和C的摩爾氯化物顯示了時(shí)間的變化。

細(xì)胞毒性試驗(yàn)

通過在與合金樣品接觸后將細(xì)胞培養(yǎng)物暴露于溶液中進(jìn)行細(xì)胞毒性測定，在 37°C 的培養(yǎng)基 MEM 中浸泡 10 天。 NCTC 克隆 929 細(xì)胞系購自美國典型培養(yǎng)物保藏中心 (ATCC) 庫。 根據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)化組織 (ISO) (19)，在之前的論文 (17,18) 中描述了中性紅吸收 (NRU) 方法，評(píng)估了細(xì)胞毒性效應(yīng)。

?

結(jié)果

電化學(xué)結(jié)果

人工唾液和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液的腐蝕電位（固定開路電位值）為

-100±28 mVSCE 和 -277±23

mVSCE 分別（圖 1A）。陽極動(dòng)電位極化曲線由腐蝕電位獲得并繪制，以評(píng)估電位的影響，以確定合金鈍化的電位范圍和跨鈍化電位的值。進(jìn)行計(jì)時(shí)電流測試是為了驗(yàn)證鈍化膜上是否存在點(diǎn)蝕。從極化曲線獲得的結(jié)果繪制在圖 1A 中，其中合金的計(jì)時(shí)電流曲線在不同的電位值（圖 1B 和 1C），分別在人工唾液和 NaCl 介質(zhì)中。計(jì)時(shí)電流結(jié)果顯示在不同的電位下，并證實(shí)了通過動(dòng)電位極化陽極曲線獲得的結(jié)果，表明金屬表面鈍化的電位范圍。在不同電位值下觀察到的電流密度恒定值表明合金不存在點(diǎn)腐蝕。

?

EIS 被用來研究鈍化膜/電解質(zhì)界面和隨電位增加的演變。圖 2 顯示了 CoCrW 在人工唾液（圖 2A）和 0.15 mol.L-1 NaCl 溶液（圖 2B）中 Ecorr 和 0.25 VSCE 的 Bode（模量和相）圖。對(duì)于兩種介質(zhì)中的合金/溶液界面，可以看到類似的行為：阻抗的虛部和實(shí)部隨著電位變得比 Ecorr 更正而減少。建議的等效電路如圖 2C 所示，

圖2。() CoCrW合金在氯化鈉(A)和人工唾液下的阻抗空間。等效電路用于擬合不同電勢下的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。

其中 R 對(duì)應(yīng)于電解質(zhì)電阻，CPE 和 Rf 分別對(duì)應(yīng)于恒相元件（偽電容）和通過保護(hù)膜氧化反應(yīng)的極化電阻。CPEdc 和 Rct 分別對(duì)應(yīng)于雙層恒相CoCrW 合金氧化的元素和電荷轉(zhuǎn)移電阻。在兩種媒體中為 Ecorr 和 0.25 VSCE 提出了相同的電路。

表面表征

??????進(jìn)行SEM和EDS分析以評(píng)估非金屬夾雜物的存在。拋光后使用 EDS 分析不同的表面區(qū)域

1 mm 鉆石膏。圖 3 顯示了三個(gè)不同的區(qū)域，1、2 和 3。根據(jù) EDS 分析，區(qū)域 1 表示整體成分，區(qū)域 2 對(duì)應(yīng)于碳化鈮，區(qū)域 3 是由于存在硅和錳氧化物。

XPS 用于研究鈍化膜成分中 Cr 和 Co 的存在。表 3 顯示了鈍化膜中元件的絕對(duì)電位。表面的鉻含量在兩種介質(zhì)中都高于鈷，與唾液相比，在 0.15 mol.L-1 NaCl 中更高。結(jié)果表明鈍化膜中存在鉻 (III) 和鈷氧化物。

?表 3 浸漬后 CoCrW 合金的 X 射線光電子能譜 (XPS) 結(jié)果

圖 3. 通過 1 毫米金剛石膏拋光的 CoCrW 合金樣品的 SEM 和 EDS 圖像。

細(xì)胞毒性試驗(yàn)

?????進(jìn)行細(xì)胞毒性試驗(yàn)，結(jié)果見圖4；細(xì)胞毒性評(píng)價(jià)采用中性紅吸收法。陽性和陰性對(duì)照用于確認(rèn)測試程序的適當(dāng)性能和/或評(píng)估 CoCrW 合金的結(jié)果，以及控制電池靈敏度、提取效率和其他測試參數(shù)。細(xì)胞活力高于 IC50( ) 線的樣品被認(rèn)為是無毒的，低于 IC50( ) 線的樣品是有毒的。

?

討論

?????圖 1A 顯示鹽水溶液中的 Ecorr 更正，表明與人工唾液介質(zhì)相比，形成更好的被動(dòng)膜。 CoCrW 合金（圖 1A）在大的分析電位范圍內(nèi)顯示出較小的電流密度值（1 至 10 μA/cm2），表明在兩種介質(zhì)中形成的鈍化膜具有良好的特性。 CoCrW 合金在 NaCl 介質(zhì)中表現(xiàn)出較低的鈍化電流密度，表明氯化鈉的鈍化膜比人工唾液中的鈍化膜更多。計(jì)時(shí)電流曲線（圖 1B 和 1C）即使在高電位下也顯示出恒定的電流密度值，表明沒有點(diǎn)腐蝕。結(jié)果表明，CoCrW 合金在 0.9 V 和兩種介質(zhì)中的高電流密度值下僅呈現(xiàn)普遍腐蝕。

?

???通過 EIS 在 Ecorr 和 0.25 VSCE 下研究了鈍化膜的特性。結(jié)果示于圖2A和2B中。波特相圖是典型的無源系統(tǒng)，在低頻時(shí)阻抗的實(shí)部和虛部均具有高值。在波特圖中 |Z| 的值約為 105 Ω/cm2 且角度大于 75o，顯示形成的薄膜具有高阻容特性。波特相圖指出了人工唾液和氯化鈉的相同機(jī)制。圖 2C 還顯示了根據(jù)模擬等效電路對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的擬合。在整個(gè)研究頻率范圍內(nèi)觀察到實(shí)驗(yàn)結(jié)果和所提出的等效電路之間的良好一致性，表明兩種介質(zhì)中的定性機(jī)制相同。在氯化鈉介質(zhì)中形成的膜（圖 2B）比在人工唾液中形成的膜（圖 2A）具有更好的質(zhì)量。

圖 4. CoCrW 合金在中性紅吸收方法的細(xì)胞毒性測定中的活力曲線。

鈍化膜的成分由 Ecorr 的 XPS 分析。氯化鈉中形成的鈍化膜中鉻和鈷的含量比人工唾液中的多。保護(hù)膜由兩種介質(zhì)（20）中的氧化鉻形成。 Hodgson 等人也獲得了這些結(jié)果。 (21)。在 CoCr 基合金中，只有在高電位時(shí)才會(huì)發(fā)現(xiàn)鉻氧化的另一種狀態(tài)，如 Cr (VI) (21,22)。 Co2+ 和 Co3+ 之間的化學(xué)位移非常小 (22-24)，表明難以表征金屬表面的氧化態(tài)。薄膜中的少量鈷表明它擴(kuò)散到溶液中并且沒有顯著貢獻(xiàn)到氧化物相。

在這項(xiàng)研究中，測試合金即使在 100? 提取物濃度下也沒有出現(xiàn)毒性作用。所有活力曲線均高于細(xì)胞毒性指數(shù)線，這意味著 CoCrW 合金在該測定中沒有顯示出細(xì)胞毒性效應(yīng)。在這項(xiàng)研究中，CoCrW 合金表現(xiàn)出良好的行為，形成了富含鉻 (III) 氧化物和少量鈷氧化物的均勻鈍化膜。在 0.15 mol.L-1 NaCl 中形成的薄膜比在人工唾液中形成的薄膜更具電容性和電阻性。人工唾液的化學(xué)復(fù)雜性可能導(dǎo)致鈍化膜的更大不穩(wěn)定性。 SEM 和 EDS 表明 CoCrW 合金呈現(xiàn)碳化鈮和硅和錳的氧化物作為非金屬夾雜物。細(xì)胞毒性試驗(yàn)驗(yàn)證了非細(xì)胞毒性

根據(jù)所使用的方法對(duì)合金的影響。

這項(xiàng)研究的結(jié)果表明，從電化學(xué)和細(xì)胞毒性的角度來看，CoCrW 合金可用作生物材料，用于種植牙假體。

?

?